Technical Data
技術データ活性種挙動の可視化（２）ー 基板バイアスの影響
基板バイアス印加側電極に、O2クリーニング用(No.1)およびArクリーニング用(No.22)のプラズマインジケータを設置し、Arプラズマ処理を実施。各インジケータの変色の基板バイアス依存性をみた。
テスト方法
結果
基板バイアス印加に応じて(0～50W)、イオンで変色しやすいArクリーニング用インジケータの色差が大きく増加するのに対し、ラジカルで変色するO2クリーニング用インジケータは微増となった。
バイアスによりArイオンの照射量が増加していることを、Arクリーニング用インジケータが検知していると考えられる。
記事で紹介した商品
実装工程 / 後工程向け
PLAZMARK® O₂クリーニング用
O₂をはじめ、N₂、Air、CF₄、H₂、NH₃などラジカル性のプラズマ検知に最適化したインジケータです。（Arプラズマでも変色する場合があります）O₂ラジカルに反応するため、UV洗浄・UVオゾン洗浄にも適用できます。
